تصویر فوق مربوط به نمونه نانو ذرات دی اکسید قلع (Tin dioxide SnO2) می¬باشد که به روش اشعه الکترونی (E-beam) بر روی زیر لایه بصورت خودسازگار (Self-assemble) لایه نشانی شده است. تصویر نیز توسط ARA- AFM در دانشگاه شیراز گرفته شده است.